Перейти к содержимому


- - - - -

Intel может отказаться от гонки за EUV-литографией


  • Авторизуйтесь для ответа в теме
Сообщений в теме: 3

#1 hikaru

hikaru
  • Модератор
  • 3 711 сообщений
  • Пол:Не определился
  • Город:鎌倉

Отправлено 11.10.2017 - 21:31

Гонка за EUV-литографией входит в стадию, близкую к финальной. Производитель сканеров — компания ASML — ранее в текущем году заявила о заключении договоров на поставку ряду неназванных заказчиков 21 установки NXE:3400B. Сканеры NXE:3400B стали первыми установками, квалифицированными как годными для организации коммерческого производства полупроводников. Мощность источника излучения сканеров поднята до 250 Вт. Это позволяет каждый час обрабатывать до 125 300-мм пластин. На сборку каждой установки уходит 21 месяц. До конца года производитель планирует собрать 8-9 сканеров. Некоторой проблемой, если верить источникам, служит дефицит оптических систем компании Carl Zeiss. Поставки линз, точнее — зеркал, ограничены и возможности нарастить их нет.
Тем не менее, компании Samsung и TSMC намерены внедрить использование EUV-проекции в коммерческое производство как можно раньше. Первой это обещает сделать компания Samsung. Уже в 2018 году с прицелом на выпуск продуктов с использованием первого поколения 7-нм техпроцесса Samsung начнёт коммерческую эксплуатацию EUV-сканеров. Компания TSMC последует за ней в 2019 году, начав эксплуатацию EUV-сканеров со второго поколения 7-нм техпроцесса. Это поможет снизить число фотошаблонов для изготовления каждого критического слоя чипа до одного-двух вместо тех шести и даже семи фотошаблонов, которые необходимы сегодня для выпуска самых передовых решений.
Компания Intel, как уверяют анонимные источники, может отказаться от гонки за EUV-литографией. В то же время она якобы больше других приобрела опытных сканеров, которые ASML выпускала до настоящего момента. Всего ASML выпустила 14 установок с малой мощностью излучателей (в принципе, все они или значительная часть из них могут быть модернизированы). Намерение Intel отказаться от гонки за EUV-производством источник видит в том, что компания не ведёт переговоры о расширении закупок сырья для производства сверх тех объёмов, которые она закупает в настоящий момент. Компании Samsung и TSMC, надо полагать, такие переговоры уже ведут.
В оправдание Intel надо признать, что компании особенно некуда спешить. Для выпуска x86-совместимых процессоров наработанных технологий и техпроцессов пока достаточно и они коммерчески оправданы даже для использования сверх пяти фотошаблонов на один слой. Процессоры компания Intel продаёт по такой цене, которые покрывают затраты и позволяют оставаться в прибыли. Для компаний Samsung и TSMC ситуация иная. Им необходимо предоставить скидки главным партнёрам в лице Apple и Qualcomm, чипы которых стоят гораздо меньше, чем процессоры Intel. Для них EUV-литография обещает стать тем инструментом, который существенно улучшит себестоимость решений.

https://www.overcloc...itografiej.html

#2 HappyBrain

HappyBrain
  • Уровень скромности

  • Администратор
  • 18 118 сообщений
  • Пол:Мужчина
  • Город:Москва

Отправлено 12.10.2017 - 00:23

я дико извиняюсь , но ... будем посмотреть на надёжность 7-нм устройств . Это очень мелко.


"В ходе интервью с техническим директором AMD Марком Пейпермейстером, он сообщил, что 7 нм технология, по которой планируется изготавливать второе и третье поколение Zen, будет использоваться в течение долгого периода времени.
Он сравнил эту технологию с 28 нм процессом и заявил, что это «самый трудный переход за множество поколений».

Чтобы ускорить 7 нм «мы буквально удвоили наши усилия, как на предприятиях, так и в командах разработки. Это труднейший переход, который я видел за множество поколений», — заявил Пейпермейстер, сравнив его с переходом на медные соединения.

Изображение

Он добавил, что 7 нм технология требует новых «инструментов САПР и меняет подход к проектированию устройства и способам соединения транзисторов. Реализация и инструменты меняются так же, как и необходимая для работы IT поддержка».

Директор ожидает, что заводы начнут использовать экстремальную ультрафиолетовую литографию (EUV) в 2019 году, которая позволит выпускать микросхемы с 7 нм элементами, и он настаивает, чтобы они сделали это максимально быстро."

#3 hikaru

hikaru
  • Модератор
  • 3 711 сообщений
  • Пол:Не определился
  • Город:鎌倉

Отправлено 13.10.2017 - 10:52

Любая новая технология требует отработки. Года через 2 после выхода первых изделий будет брать.

#4 HappyBrain

HappyBrain
  • Уровень скромности

  • Администратор
  • 18 118 сообщений
  • Пол:Мужчина
  • Город:Москва

Отправлено 13.10.2017 - 13:04

Два! )) э то долго по нашему темпу жизни
Инел, имхо , чует: пионэры облажаются )




Количество пользователей, читающих эту тему: 1

0 пользователей, 1 гостей, 0 скрытых пользователей